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【MEMOLEAD】商标详情

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MEMOLEAD
  • MEMOLEAD
  • 76788773
  • 已注册
  • 普通商标
  • 第01类
  • 2024-02-05
  • 0104

  • -工业用化学品,

    0104-光致抗蚀剂,

    0104-半导体制造用蚀刻剂,

    0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,

    0104-和研磨剂配用的辅助液,

    0104-工业用清洁剂,

    0104-生产加工用去污剂,

    0104-电镀制剂,

    0104-蚀刻媒染剂（酸）

    -工业用化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用清洁剂;0104-生产加工用去污剂;0104-电镀制剂;0104-蚀刻媒染剂（酸）
  • 1891
  • 2024-06-13
  • 1903
  • 2024-09-14
  • 2024-09-14-2034-09-13
  • 花王株式会社
  • 东京都东京************
  • 北京联德知识产权代理有限公司

  • 2024-04-19 商标注册申请 | 受理通知书发文

    2024-03-14 商标注册申请 | 补正通知发文

    2024-02-05 商标注册申请 | 申请收文

  • 商标注册公告（一） 2024-09-13 第1903期 查看公告

    商标初步审定公告 2024-06-13 第1891期 查看公告

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  • 已注册
  • 普通商标
  • 第01类
  • 2024-02-05
  • 0104

  • -工业用化学品,

    0104-光致抗蚀剂,

    0104-半导体制造用蚀刻剂,

    0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,

    0104-和研磨剂配用的辅助液,

    0104-工业用清洁剂,

    0104-生产加工用去污剂,

    0104-电镀制剂,

    0104-蚀刻媒染剂（酸）

    -工业用化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用清洁剂;0104-生产加工用去污剂;0104-电镀制剂;0104-蚀刻媒染剂（酸）
  • 1891
  • 2024-06-13
  • 1903
  • 2024-09-14
  • 2024-09-14-2034-09-13
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  • 2024-04-19 商标注册申请 | 受理通知书发文

    2024-03-14 商标注册申请 | 补正通知发文

    2024-02-05 商标注册申请 | 申请收文

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