【苏泰克】商标详情
- 苏泰克
- 4634117
- 已销亡
- 普通商标
- 2005-04-29
4001 , 4002 4001-半导体处理,
4001-材料化学处理,
4001-材料处理,
4001-材料机械处理,
4001-材料物理处理,
4001-材料表面机床加工处理,
4001-用于微电子及其相关产品的基底材料处理,
4001-硅晶片处理,
4002-硅晶片和半导体、硅移 植、各种介质上半导体和元件膜的研磨抛光,
4002-磁化
4001-半导体处理;4001-材料化学处理;4001-材料处理;4001-材料机械处理;4001-材料物理处理;4001-材料表面机床加工处理;4001-用于微电子及其相关产品的基底材料处理;4001-硅晶片处理;4002-硅晶片和半导体、硅移植、各种介质上半导体和元件膜的研磨抛光;4002-磁化 - 1129
- 2008-07-27
- 1141
- 2008-10-28
- 2008-10-28-2018-10-27
- 苏泰克公司
- 伊泽尔省贝尔南************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2024-01-29 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2024-01-29 期满未续展注销商标 | 申请收文
2024-01-23 期满未续展注销商标 | 申请收文
2015-12-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2014-12-18 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 等待打印受理通知书
2014-08-28 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2008-11-17 商标注册申请 | 打印注册证
2005-08-16 商标注册申请 | 打印受理通知
2005-04-29 商标注册申请 | 申请收文
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- 2005-04-29
4001 , 4002 4001-半导体处理,
4001-材料化学处理,
4001-材料处理,
4001-材料机械处理,
4001-材料物理处理,
4001-材料表面机床加工处理,
4001-用于微电子及其相关产品的基底材料处理,
4001-硅晶片处理,
4002-硅晶片和半导体、硅移植、各种介质上半导体和元件膜的研磨抛光,
4002-磁化
4001-半导体处理;4001-材料化学处理;4001-材料处理;4001-材料机械处理;4001-材料物理处理;4001-材料表面机床加工处理;4001-用于微电子及其相关产品的基底材料处理;4001-硅晶片处理;4002-硅晶片和半导体、硅移植、各种介质上半导体和元件膜的研磨抛光;4002-磁化 - 1129
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