【C.ACTIVATOR】商标详情
- C.ACTIVATOR
- G1703704
- 待审中
- 普通商标
- 2022-12-22
0706 , 0717 , 0729 , 0734 , 0744 , 0751 0706-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0729-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备),
0734-输送机器(大气或亚大气或预定气体环境下),
0744-原子层沉积机(=ALD),
0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其 他基板的机器,
0744-用于在真空(所谓的化学气相沉积工艺)、大气或等离子体影响下对半导体表面进行气相沉积或涂层的机器,
0744-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备),
0744-用于蚀刻半导体表面的机器,
0751-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备)
0706-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0729-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备);0734-输送机器(大气或亚大气或预定气体环境下);0744-原子层沉积机(=ALD);0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0744-用于在真空(所谓的化学气相沉积工艺)、大气或等离子体影响下对半导体表面进行气相沉积或涂层的机器;0744-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备);0744-用于蚀刻半导体表面的机器;0751-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备) - 2022-09-01-2032-09-01
- CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
- 国际局
2023-05-15 领土延伸 | 驳回电子发文
2022-12-22 商标注册申请 | 申请收文
2022-12-22 领土延伸 | 申请收文
- C.ACTIVATOR
- G1703704
- 待审中
- 普通商标
- 2022-12-22
0706 , 0717 , 0729 , 0734 , 0744 , 0751 0706-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0729-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备),
0734-输送机器(大气或亚大气或预定气体环境下),
0744-原子层沉积机(=ALD),
0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0744-用于在真空(所谓的化学 气相沉积工艺)、大气或等离子体影响下对半导体表面进行气相沉积或涂层的机器,
0744-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备),
0744-用于蚀刻半导体表面的机器,
0751-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备)
0706-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0729-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备);0734-输送机器(大气或亚大气或预定气体环境下);0744-原子层沉积机(=ALD);0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0744-用于在真空(所谓的化学气相沉积工艺)、大气或等离子体影响下对半导体表面进行气相沉积或涂层的机器;0744-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备);0744-用于蚀刻半导体表面的机器;0751-用于热加工或制造过程的设备及装置,即涂层设备、退火设备、真空焊接、化学气相沉积设备(CVD设备) - 2022-09-01-2032-09-01
- CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
- 国际局
2023-05-15 领土延伸 | 驳回电子发文
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