【图形】商标详情
- 图形
- 77259786
- 已注册
- 普通商标
- 2024-03-12
0102 , 0104 , 0109 , 0110 , 0113 0102-氢氧化镁,
0102-滑石（镁铝合金硅酸盐）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-油类用化学添加剂,
0109-矿物质原料制人造植物培养土,
0110-用于处理木材、纺织品、塑料和楼房用绝缘材料的阻燃剂,
0110-阻燃制剂,
0110-阻燃剂,
0110-阻燃合成物,
0113-制化妆品用化学添加剂
0102-氢氧化镁;0102-滑石（镁铝合金硅酸盐）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-油类用化学添加剂;0109-矿物质原料制人造植物培养土;0110-用于处理木材、纺织品、塑料和楼房用绝缘材料的阻燃剂;0110-阻燃制剂;0110-阻燃剂;0110-阻燃合成物;0113-制化妆品用化学添加剂 - 1889
- 2024-05-27
- 1901
- 2024-08-28
- 2024-08-28-2034-08-27
- 辽宁日邦纳米科技有限公司
- 辽宁省丹东市************
- 仙桃市乐教通电子商务有限公司
2024-09-21 商标注册申请 | 注册证发文
2024-04-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-12 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-03-12
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0102-滑石（镁铝合金硅酸盐）,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-油类用化学添加剂,
0109-矿物质原料制人造植物培养土,
0110-用于处理木材、纺织品、塑料和楼房用绝缘材料的阻燃剂,
0110-阻燃制剂,
0110-阻燃剂,
0110-阻燃合成物,
0113-制化妆品用化学添加剂
0102-氢氧化镁;0102-滑石（镁铝合金硅酸盐）;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-油类用化学添加剂;0109-矿物质原料制人造植物培养土;0110-用于处理木材、纺织品、塑料和楼房用绝缘材料的阻燃剂;0110-阻燃制剂;0110-阻燃剂;0110-阻燃合成物;0113-制化妆品用化学添加剂 - 1889
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