【芯仕达】商标详情
- 芯仕达
- 79732466
- 待审中
- 普通商标
- 2024-07-11
0101 , 0104 , 0106 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0101-碱土金属,
0104-光触媒,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0101-半导体用硅;0101-硅;0101-碱土金属;0104-光触媒;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 芯仕达电子材料(昆山)有限公司
- 江苏省苏州市************
- 任丘市新颜知识产权服务有限公司
2024-07-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-11 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-07-11
0101 , 0104 , 0106 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0101-碱土金属,
0104-光触媒,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0101-半导体用硅;0101-硅;0101-碱土金属;0104-光触媒;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 芯仕达电子材料(昆山)有限公司
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