【TOK】商标详情
- TOK
- 4511909
- 已注册
- 普通商标
- 2005-02-23
0744 0744-半导体以及平板显示器用SIO系覆膜的涂抹设备,
0744-半导体以及平板显示器用光敏抗蚀剂膜的涂抹设备,
0744-半导体以及平板显示器用显影剂稀释设备,
0744-半导体以及平板显示器用洗净剂稀释设备,
0744-半导体以及平板显示器用药液涂抹设备,
0744-半导体以及平板显示器用药液稀释设备,
0744-抛光设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程),
0744-浸蚀以及抛光用等离子处理设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程),
0744-浸蚀设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程)
0744-半导体以及平板显示器用SIO系覆膜的涂抹设备;0744-半导体以及平板显示器用光敏抗蚀剂膜的涂抹设备;0744-半导体以及平板显示器用显影剂稀释设备;0744-半导体以及平板显示器用洗净剂稀释设备;0744-半导体以及平板显示器用药液涂抹设备;0744-半导体以及平板显示器用药液稀释设备;0744-抛光设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程);0744-浸蚀以及抛光用等离子处理设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程);0744-浸蚀设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程) - 1177
- 2009-07-27
- 1189
- 2009-10-28
- 2019-10-28-2029-10-27
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2019-11-04 商标续展 | 核准通知打印发送
2019-08-08 商标续展 | 申请收文
2009-11-16 商标注册申请 | 打印注册证
2009-01-22 驳回复审 | 补充材料收文
2007-09-11 驳回复审 | 打印受理通知
2007-07-12 驳回复审 | 申请收文
2007-06-26 商标注册申请 | 打印驳回通知
2005-04-26 商标注册申请 | 打印受理通知
2005-02-23 商标注册申请 | 申请收文
- TOK
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- 已注册
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- 2005-02-23
0744 0744-半导体以及平板显示器用SIO系覆膜的涂抹设备,
0744-半导体以及平板显示器用光敏抗蚀剂膜的涂抹设备,
0744-半导体以及平板显示器用显影剂稀释设备,
0744-半导体以及平板显示器用洗净剂稀释设备,
0744-半导体以及平板显示器用药液涂抹设备,
0744-半导体以及平板显示器用药液稀释设备,
0744-抛光设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程),
0744-浸蚀以及抛光用等离子处理设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程),
0744-浸蚀设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程)
0744-半导体以及平板显示器用SIO系覆膜的涂抹设备;0744-半导体以及平板显示器用光敏抗蚀剂膜的涂抹设备;0744-半导体以及平板显示器用显影剂稀释设备;0744-半导体以及平板显示器用洗净剂稀释设备;0744-半导体以及平板显示器用药液涂抹设备;0744-半导体以及平板显示器用药液稀释设备;0744-抛光设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程);0744-浸蚀以及抛光用等离子处理设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程);0744-浸蚀设备(用于半导体以及平板显示器的制造过程) - 1177
- 2009-07-27
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- 2009-10-28
- 2019-10-28-2029-10-27
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
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