【ASML】商标详情
- ASML
- 2016003
- 已注册
- 普通商标
- 2001-06-29
4220 4220-有关照相平版印刷模板的设计，测试和制造用计算机软件的设计，维护和开发方面的咨询,
4220-有关电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业用机器、装置和仪器的非贸易业务咨询,
4220-有关电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业用计算机软件的设计、维护及开发方面的咨询,
4220-用于电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业的计算机软件的开发,
4220-用于电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业的计算 机软件的维护,
4220-用于电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业的计算机软件的设计,
4220-用于设计、测试和制造照相平版印刷模板的计算机软件的开发,
4220-用于设计、测试和制造照相平版印刷模板的计算机软件的维护,
4220-用于设计、测试和制造照相平版印刷模板的计算机软件的设计
4220-有关照相平版印刷模板的设计，测试和制造用计算机软件的设计，维护和开发方面的咨询;4220-有关电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业用机器、装置和仪器的非贸易业务咨询;4220-有关电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业用计算机软件的设计、维护及开发方面的咨询;4220-用于电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业的计算机软件的开发;4220-用于电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业的计算机软件的维护;4220-用于电子、微平版印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业的计算机软件的设计;4220-用于设计、测试和制造照相平版印刷模板的计算机软件的开发;4220-用于设计、测试和制造照相平版印刷模板的计算机软件的维护;4220-用于设计、测试和制造照相平版印刷模板的计算机软件的设计 - 842
- 2002-08-07
- 854
- 2002-11-07
- 2022-11-07-2032-11-06
- 阿斯麦荷兰公司
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 北京金杜知识产权代理有限公司
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2023-05-25 变更商标代理人 | 不予核准通知打印发送
2023-05-25 变更商标代理人 | 核准通知打印发送
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2023-05-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-10-21 商标续展 | 核准通知打印发送
2022-09-10 商标续展 | 申请收文
2022-09-08 商标续展 | 申请收文
2020-04-23 变更商标代理人 | 核准通知打印发送
2020-02-08 变更商标代理人 | 申请收文
2020-02-07 变更商标代理人 | 申请收文
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2012-10-15 商标续展 | 申请收文
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2006-04-05 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2002-11-29 商标注册申请 | 打印注册证
2001-12-31 商标注册申请 | 申请收文
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