
【中安方镜】商标详情

- 中安方镜
- 92058199
- 待审中
- 普通商标
- 2026-05-27
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 , 0110 , 0111 , 0112 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0102-硅胶,
0102-蒸馏水,
0102-表面活性剂,
0102-酐,
0102-酸,
0102-醚,
0103-工业用同位素,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-增塑剂,
0108-未加工人造树脂,
0110-阻燃剂,
0111-金属退火剂,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0102-硅胶;0102-蒸馏水;0102-表面活性剂;0102-酐;0102-酸;0102-醚;0103-工业用同位素;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-增塑剂;0108-未加工人造树脂;0110-阻燃剂;0111-金属退火剂;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 中安(北京)科学技术研究院
- 北京市北京市************
- 北京君慧智达知识产权代理有限公司
2026-06-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-05-27 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 , 0110 , 0111 , 0112 , 0115 0101-半导体用硅,
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0102-蒸馏水,
0102-表面活性剂,
0102-酐,
0102-酸,
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0103-工业用同位素,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
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0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-增塑剂,
0108-未加工人造树脂,
0110-阻燃剂,
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0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0102-硅胶;0102-蒸馏水;0102-表面活性剂;0102-酐;0102-酸;0102-醚;0103-工业用同位素;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-增塑剂;0108-未加工人造树脂;0110-阻燃剂;0111-金属退火剂;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 中安(北京)科学技术研究院
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