【VISTARA】商标详情
- VISTARA
- G1711148
- 待审中
- 普通商标
- 2023-02-02
0744 0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即一个使用多种技术集成多达12个反应室的半导体晶圆处理平台,
0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即使用多种技术集成多达12个反应室的平台
0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即一个使用多种技术集成多达12个反应室的半导体晶圆处理平台;0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即使用多种技术集成多达12个反应室的平台 - 2023-01-04-2033-01-04
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2024-08-04 国际部分注销 | 申请收文
2023-10-31 领土延伸 | 审查
2023-02-02 商标注册申请 | 申请收文
2023-02-02 领土延伸 | 申请收文
- VISTARA
- G1711148
- 待审中
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- 2023-02-02
0744 0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即一个使用多种技术集成多达12个反应室的半导体晶圆处理平台,
0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即使用多种技术集成多达12个反应室的平台
0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即一个使用多种技术集成多达12个反应室的半导体晶圆处理平台;0744-半导体晶圆加工设备和半导体晶圆加工设备组件，即使用多种技术集成多达12个反应室的平台 - 2023-01-04-2033-01-04
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2024-08-04 国际部分注销 | 申请收 文
2023-10-31 领土延伸 | 审查
2023-02-02 商标注册申请 | 申请收文
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