
【SPT】商标详情

- SPT
- G1275687
- 已注册
- 普通商标
- 2015-11-26
0744 0744-制造半导体器件用的大气压下的化学汽相沉积机器,
0744-制造半导体器件用的沉积机器,
0744-制造半导体器件用的热处理机器,
0744-制造半导体器件用的蚀刻机器,
0744-制造微电子机械设备用的大气压下的化学汽相沉积机器,
0744-制造微电子机械设备用的沉积机器,
0744-制造微电子机械设备用的热处理机器,
0744-制造微电子机械设备用的蚀刻机器
0744-制造半导体器件用的大气压下的化学汽相沉积机器;0744-制造半导体器件用的沉积机器;0744-制造半导体器件用的热处理机器;0744-制造半导体器件用的蚀刻机器;0744-制造微电子机械设备用的大气压下的化学汽相沉积机器;0744-制造微电子机械设备用的沉积机器;0744-制造微电子机械设备用的热处理机器;0744-制造微电子机械设备用的蚀刻机器 - 2015-09-14-2035-09-14
- SPP Technologies Co., Ltd.
- 东京都东京************
- 国际局
2017-03-14 领土延伸 | 审查
2015-11-26 商标注册申请 | 申请收文
2015-11-26 领土延伸 | 申请收文
- SPT
- G1275687
- 已注册
- 普通商标
- 2015-11-26
0744 0744-制造半导体器件用的大气压下的化学汽相沉积机器,
0744-制造半导体器件用的沉积机器,
0744-制造半导体器件用的热处理机器,
0744-制造半导体器件用的蚀刻机器,
0744-制造微电子机械设备用的大气压下的化学汽相沉积机器,
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0744-制造微电子机械设备用的热处理机器,
0744-制造微电子机械设备用的蚀刻机器
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- SPP Technologies Co., Ltd.
- 东京都东京************
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