【图形】商标详情
- 图形
- 62965249
- 已注册
- 普通商标
- 2022-03-02
0101 , 0102 , 0104 , 0107 0101-半导体用硅,
0102-氢氟酸,
0102-硝酸,
0102-硫酸,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学品,
0104-电镀液,
0107-摄影用显影剂
0101-半导体用硅;0102-氢氟酸;0102-硝酸;0102-硫酸;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学品;0104-电镀液;0107-摄影用显影剂 - 1794
- 2022-06-06
- 1806
- 2022-09-07
- 2022-09-07-2032-09-06
- 南通宝惠峰科技有限公司
- 江苏省南通市************
- 北京丰标科技有限公司
2022-09-30 商标注册申请 | 注册证发文
2022-03-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-03-02 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 , 0107 0101-半导体用硅,
0102-氢氟酸,
0102-硝酸,
0102-硫酸,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学品,
0104-电镀液,
0107-摄影用显影剂
0101-半导体用硅;0102-氢氟酸;0102-硝酸;0102-硫酸;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄 膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学品;0104-电镀液;0107-摄影用显影剂 - 1794
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2022-09-30 商标注册申请 | 注册证发文
2022-03-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-03-02 商标注册申请 | 申请收文
