【天光】商标详情
- 天光
- 63256439
- 已注册
- 普通商标
- 2022-03-14
0101 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0101-碱土金属,
0101-结晶硅,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-未加工塑料制过滤材料,
0115-工业用粘合剂和胶水
0101-半导体用硅;0101-硅;0101- 碱土金属;0101-结晶硅;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-未加工塑料制过滤材料;0115-工业用粘合剂和胶水 - 1795
- 2022-06-13
- 1807
- 2022-09-14
- 2022-09-14-2032-09-13
- 天水天光半导体有限责任公司
- 甘肃省天水市************
- 北京润文知识产权代理有限公司
2022-10-10 商标注册申请 | 注册证发文
2022-04-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-03-14 商标注册申请 | 申请收文
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- 63256439
- 已注册
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- 2022-03-14
0101 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0101-碱土金属,
0101-结晶硅,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-未加工塑料制过滤材料,
0115-工业用粘合剂和胶水
0101-半导体用硅;0101-硅;0101-碱土金属;0101-结晶硅;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-未加工塑料制过滤材料;0115-工业用粘合剂和胶水 - 1795
- 2022-06-13
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- 2022-09-14-2032-09-13
- 天水天光半导体有限责任公司
- 甘肃省天水市************
- 北京润文知识产权代理有限公司
2022-10-10 商标注册申请 | 注册证发文
2022-04-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-03-14 商标注册申请 | 申请收文
