【图形】商标详情
- 图形
- 77839792
- 已注册
- 普通商标
- 2024-04-09
0102 , 0104 , 0106 -半导体制造用磷化烟,
0102-半导体制造用硒化镉,
0102-工业用无机盐,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-荧光粉,
0106-实验室分析用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0106-非医用、非兽医用诊断制剂,
0106-非医用生物化学试剂
-半导体制造用磷化烟;0102-半导体制造用硒化镉;0102-工业用无机盐;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-荧光粉;0106-实验室分析用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0106-非医用、非兽医用诊断制剂;0106-非医用生物化学试剂 - 1893
- 2024-06-27
- 1905
- 2024-09-28
- 2024-09-28-2034-09-27
- 昭荣化学工业株式会社
- 东京都东京************
- 北京市柳沈律师事务所
2024-06-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-10 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-04-09 商标注册申请 | 申请收文
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- 77839792
- 已注册
- 普通商标
- 2024-04-09
0102 , 0104 , 0106 -半导体制造用磷化烟,
0102-半导体制造用硒化镉,
0102-工业用无机盐,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-荧光粉,
0106-实验室分析用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0106-非医用、非兽医用诊断制剂,
0106-非医用生物化学试剂
-半导体制造用磷化烟;0102-半导体制造用硒化镉;0102-工业用无机盐;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工 原料;0104-荧光粉;0106-实验室分析用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0106-非医用、非兽医用诊断制剂;0106-非医用生物化学试剂 - 1893
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- 2024-09-28
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- 昭荣化学工业株式会社
- 东京都东京************
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2024-06-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-10 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-04-09 商标注册申请 | 申请收文
