【PLASMATRON】商标详情
- PLASMATRON
- G738532
- 已注册
- 普通商标
-切割和融化装置,
-制等离子设备,
-等离子发生室,
-金属结构淬火装置、涂抹装置
-切割和融化装置;-制等离子设备;-等离子发生室;-金属结构淬火装置、涂抹装置 - 2000-05-18
- 2020-05-18-2030-05-18
- INOCON TECHNOLOGIE GESELLSCHAFT M.B.H.
- 上奥地利州伦青************
- 国际局
2020-06-22 国际续展 | 申请核准审核
2020-06-07 国际续展 | 申请收文
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- G738532
- 已注册
- 普通商标
-切割和融化装置,
-制等离子设备,
-等离子发生室,
-金属结构淬火装置、涂抹装置
-切割和融化装置;-制等离子设备;-等离子发生室;-金属结构淬火装置、涂抹装置 - 2000-05-18
- 2020-05-18-2030-05-18
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