【EKC】商标详情
- EKC
- G1056767
- 已注册
- 普通商标
- 2010-12-07
0104 0104-后蚀刻去除制剂,
0104-后蚀刻处理制剂,
0104-后蚀刻清洁剂,
0104-用于半导体，光电以及发光二极管工业的感光性树脂的去除制剂,
0104-金属或者金属氧化物感光性树脂的化学去除制剂
0104-后蚀刻去除制剂;0104-后蚀刻处理制剂;0104-后蚀刻清洁剂;0104-用于半导体，光电以及发光二极管工业的感光性树脂的去除制剂;0104-金属或者金属氧化物感光性树脂的化学去除制剂 - 2020-06-21-2030-06-21
- E.I.DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY，TRADEMARKS & COPYRIGHT GROUP
- 特拉华威尔明顿************
- 国际局
2021-12-20 国际转让 | 申请核准审核
2021-12-05 国际转让 | 申请收文
2020-07-30 国际续展 | 申请核准审核
2020-07-13 国际续展 | 申请收文
2011-09-23 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-09-23 领土延伸 | 审查
2010-12-07 领土延伸 | 申请收文
- EKC
- G1056767
- 已注册
- 普通商标
- 2010-12-07
0104 0104-后蚀刻去除制剂,
0104-后蚀 刻处理制剂,
0104-后蚀刻清洁剂,
0104-用于半导体，光电以及发光二极管工业的感光性树脂的去除制剂,
0104-金属或者金属氧化物感光性树脂的化学去除制剂
0104-后蚀刻去除制剂;0104-后蚀刻处理制剂;0104-后蚀刻清洁剂;0104-用于半导体，光电以及发光二极管工业的感光性树脂的去除制剂;0104-金属或者金属氧化物感光性树脂的化学去除制剂 - 2020-06-21-2030-06-21
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2020-07-13 国际续展 | 申请收文
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