【TOPWAY】商标详情
- TOPWAY
- 75073710
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-09
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0115 0101-硅,
0102-有机金属化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用洗净剂,
0104-用于生产阻燃性纺织物的工业用化学品,
0104-金属腐蚀剂,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0115-工业用黏合剂
0101-硅;0102-有机金属化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用洗净剂;0104-用于生产阻燃性纺织物的工业用化学品;0104-金属腐蚀剂;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0115-工业用黏合剂 - 1885
- 2024-04-27
- 1897
- 2024-07-28
- 2024-07-28-2034-07-27
- 成都拓维高科光电科技有限公司
- 四川省成都市************
- 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司
2024-04-19 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-02-24 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-12-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-09 商标注册申请 | 申请收文
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0102-有机金属化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用洗净剂,
0104-用于生产阻燃性纺织物的工业用化学品,
0104-金属腐蚀剂,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0115-工业用黏合剂
0101-硅;0102-有机金属化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用洗净剂;0104-用于生产阻燃性纺织物的工业用化学品;0104-金属腐蚀剂;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0115-工业用黏合剂 - 1885
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2023-11-09 商标注册申请 | 申请收 文
