【ENF ENF TECHNOLOGY CO.,LTD.】商标详情
- ENF ENF TECHNOLOGY CO.,LTD.
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- 已销亡
- 普通商标
- 2011-07-25
0102 , 0104 , 0107 , 0108 0102-氢氟酸,
0102-氢氧化铵,
0102-苛性钠,
0102-锂镍钴锰氧化物(二次电池正极材料用),
0102-镍钴锰氢氧化物(二次电池正极材料用),
0104-光引发剂,
0104-光生酸剂,
0104-光致抗蚀剂剥离剂,
0104-制颜料用化学制剂,
0104-化学制品(二次电池用),
0104-工业化学品,
0104-用于电子工业的化学品,
0104-电解液(电池用),
0104-电解质溶液(电池用),
0104-腐蚀剂,
0107-光刻胶(显影液),
0107-摄影用感光剂,
0107-正性光刻胶,
0107-负性光刻胶,
0108-未加工丙烯酸树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工环氧树脂
0102-氢氟酸;0102-氢氧化铵;0102-苛性钠;0102-锂镍钴锰氧化物(二次电池正极材料用);0102-镍钴锰氢氧化物(二次电池正极材料用);0104-光引发剂;0104-光生酸剂;0104-光致抗蚀剂剥离剂;0104-制颜料用化学制剂;0104-化学制品(二次电池用);0104-工业化学品;0104-用于电子工业的化学品;0104-电解液(电池用);0104-电解质溶液(电池用);0104-腐蚀剂;0107-光刻胶(显影液);0107-摄影用感光剂;0107-正性光刻胶;0107-负性光刻胶;0108-未加工丙烯酸树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工环氧树脂 - 1339
- 2012-12-13
- 1351
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- 2013-03-14-2023-03-13
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2024-04-10 期满未续展注销商标 | 申请收文
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2013-04-03 商标注册申请 | 打印注册证
2012-08-29 商标注册申请 | 等待补正回文
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2012-07-02 商标注册申请 | 等待补正回文
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2012-03-05 商标注册申请 | 等待补正回文
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0102-氢氧化铵,
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0102-镍钴锰氢氧化物(二次电池正极材料用),
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