【BBELIKE】商标详情
- BBELIKE
- 75847871
- 已注册
- 普通商标
- 2023-12-18
0104 , 0107 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-平版印刷用化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-摄影用感光剂,
0107-未曝光的感光胶片,
0107-胶印用感光板
0104-制造印刷电 路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-平版印刷用化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-摄影用感光剂;0107-未曝光的感光胶片;0107-胶印用感光板 - 1880
- 2024-03-20
- 1892
- 2024-06-21
- 2024-06-21-2034-06-20
- 深圳市百利合新材料发展有限公司
- 广东省深圳市************
- 威海知了猴企业管理咨询有限公司
2024-07-17 商标注册申请 | 注册证发文
2024-01-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-11 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-12-18 商标注册申请 | 申请收文
- BBELIKE
- 75847871
- 已注册
- 普通商标
- 2023-12-18
0104 , 0107 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-平版印刷用化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-摄影用感光剂,
0107-未曝光的感光胶片,
0107-胶印用感光板
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-平版印刷用化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-摄影用感光剂;0107-未曝光的感光胶片;0107-胶印用感光板 - 1880
- 2024-03-20
- 1892
- 2024-06-21
- 2024-06-21-2034-06-20
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2024-07-17 商标注册申请 | 注册证发文
2024-01-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-11 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-12-18 商标注册申请 | 申请收文
