【TECPS】商标详情
- TECPS
- G1432426
- 已注册
- 普通商标
- 2018-11-01
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 0101-工业和科学用化学品,
0102-工业和科学用化学品,
0103-工业和科学用化学品,
0104-半导体制造机械用的工业化学品,
0104-在半导体制造过程中用的半导体衬底洗结剂,
0104-工业和科学用化学品,
0104-用于形成保护膜的化学品,
0104-用于生产半导体的刻蚀剂,
0104-用作生产操作助剂的工业清洁剂,
0106-工业和科学用化学品
0101-工业和科学用化学品;0102-工业和科学用化学品;0103-工业和科学用化学品;0104-半导体制造机械用的工业化学品;0104-在半导体制造过程中用的半导体衬底洗结剂;0104-工业和科学用化学品;0104-用于形成保护膜的化学品;0104-用于生产半导体的刻蚀剂;0104-用作生产操作助剂的工业清洁剂;0106-工业和科学用化学品 - 2018-08-02-2028-08-02
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- 东京都东京************
- 国际局
2019-02-18 领土延伸 | 审查
2018-11-01 商标注册申请 | 申请收文
2018-11-01 领土延伸 | 申请收文
- TECPS
- G1432426
- 已注册
- 普通商标
- 2018-11-01
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 0101-工业和科学用化学品,
0102-工业和科学用化学品,
0103-工业和科学用化学品,
0104-半导体制造机械用的工业化学品,
0104-在半导体制造过程中用的半导体衬底洗结剂,
0104-工业和科学用化学品,
0104-用于形成保护膜的化学品,
0104-用于生产半导体的刻蚀剂,
0104-用作生产操作助剂的工业清洁剂,
0106-工业和科学用化学品
0101-工业和科学用化学品;0102-工业和科学用化学品;0103-工业和科学用化学品;0104-半导体制造机械用的工业化学品;0104-在半导体制造过程中用的半导体衬底洗结剂;0104-工业和科学用化学品;0104-用于形成保护膜的化学品;0104-用于生产半导体的刻蚀剂;0104-用作生产操作助剂的工业清洁剂;0106-工业和科学用化学品 - 2018-08-02-2028-08-02
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- 东京都东京************
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2018-11-01 商标注册申请 | 申请收文
2018-11-01 领土延伸 | 申请收文
