【拉普】商标详情
- 拉普
- 67911319
- 已注册
- 普通商标
- 2022-10-24
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-石墨烯,
0101-结晶硅,
0102-碳化硅,
0102-磷酸铁锂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0101-石墨烯;0101-结晶硅;0102-碳化硅;0102-磷酸铁锂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1827
- 2023-02-13
- 1839
- 2023-05-14
- 2023-05-14-2033-05-13
- 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 北京品源知识产权代理有限公司
2023-06-08 商标注册申请 | 注册证发文
2023-02-14 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2023-02-08 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-11-17 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-10-24 商标注册申请 | 申请收文
- 拉普
- 67911319
- 已注册
- 普通商标
- 2022-10-24
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-石墨烯,
0101-结晶硅,
0102-碳化硅,
0102-磷酸铁锂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0101-石墨烯;0101-结晶硅;0102-碳化硅;0102-磷酸铁锂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1827
- 2023-02-13
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- 2023-05-14
- 2023-05-14-2033-05-13
- 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
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