【VMET】商标详情
- VMET
- 83655259
- 待审中
- 普通商标
- 2025-02-25
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用固态气体,
0101-混合稀土金属,
0101-稀土金属,
0102-工业用贵金属盐,
0102-有机金属化合物,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电镀制剂
0101-工业用固态气体;0101-混合稀土金属;0101-稀土金属;0102-工业用贵金属盐;0102-有机金属化合物;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电镀制剂 - 江苏先导微电子科技有限公司
- 江苏省徐州市************
- 邮寄办理
2025-03-14 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-02-25 商标注册申请 | 申请收文
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