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- 普通商标
- 2026-05-27
0104 , 0106 , 0107 , 0108 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-胶溶剂,
0106-电泳凝胶,
0106-科学用荧光染料,
0107-感光板,
0107-晒图专用显影液,
0108-作为原材料的未加工的人造树脂（粉状、液体或膏状）,
0115-工业用导电黏合剂,
0115-工业用胶水
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-胶溶剂;0106-电泳凝胶;0106-科学用荧光染料;0107-感光板;0107-晒图专用显影液;0108-作为原材料的未加工的人造树脂（粉状、液体或膏状）;0115-工业用导电黏合剂;0115-工业用胶水 - 深圳柔显新材料有限公司
- 广东省深圳市************
- 北京国所知识产权有限公司
2026-08-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-05-27 商标注册申请 | 申请收文
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0104 , 0106 , 0107 , 0108 , 0115 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-胶溶剂,
0106-电泳凝胶,
0106-科学用荧光染料,
0107-感光板,
0107-晒图专用显影液,
0108-作为原材料的未加工的人造树脂（粉状、液体或膏状）,
0115-工业用导电黏合剂,
0115-工业用胶水
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-胶溶剂;0106-电泳凝胶;0106-科学用荧光染料;0107-感光板;0107-晒图专用显影液;0108-作为原材料的未加工的人造树脂（粉状、液体或膏状）;0115-工业用导电黏合剂;0115-工业用胶水 - 深圳柔显新材料有限公司
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