【芯特轩联】商标详情
- 芯特轩联
- 70334750
- 已注册
- 普通商标
- 2023-03-21
0102 , 0104 0102-清洁剂工业用酶制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-吸附剂,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-工业用除垢剂,
0104-消光剂,
0104-消泡剂,
0104-防污剂
0102-清洁剂工业用酶制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-吸附剂;0104-工业用化学制剂;0104-工业用清洁剂;0104-工业用除垢剂;0104-消光剂;0104-消泡剂;0104-防污剂 - 1844
- 2023-06-20
- 1856
- 2023-09-21
- 2023-09-21-2033-09-20
- 上海尔轩电子科技有限公司
- 上海市上海市************
- 北京倍增知识产权代理有限公司
2023-10-13 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-03-21 商标注册申请 | 申请收文
- 芯特轩联
- 70334750
- 已注册
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- 2023-03-21
0102 , 0104 0102-清洁剂工业用酶制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-吸附剂,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-工业用除垢剂,
0104-消光剂,
0104-消泡剂,
0104-防污剂
0102-清洁剂工业用酶制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-吸附剂;0104-工业用化学制剂;0104-工业用清洁剂;0104-工业用除垢剂;0104-消光剂;0104-消泡剂;0104-防污剂 - 1844
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2023-10-13 商标注册申请 | 注册证发文
2023-04-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-03-21 商标注册申请 | 申请收文
