【ENVOSYS】商标详情
- ENVOSYS
- G1250056
- 待审中
- 普通商标
- 2015-06-04
0901 0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于对表面或物体进行热处理，或用于修改表面而进行热处理，尤其是半导体表面，包括扩散炉、连续式炉、半导体表面汽化的设备、老化炉、真空炉,
0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于气体和废气净化，包括烟道气净化设备
0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于对表面或物体进行热处理，或用于修改表面而进行热处理，尤其是半导体表面，包括扩散炉、连续式炉、半导体表面汽化的设备、老化炉、真空炉;0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用 于气体和废气净化，包括烟道气净化设备 - 2015-01-16-2025-01-16
- centrotherm clean solutions GmbH
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
- 国际局
2021-09-23 国际转让 | 申请核准审核
2021-09-12 国际转让 | 申请收文
2017-04-24 国际变更 | 申请核 准审核
2016-03-13 国际变更 | 申请收文
2015-06-04 商标注册申请 | 申请收文
2015-06-04 领土延伸 | 申请收文
- ENVOSYS
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- 待审中
- 普通商标
- 2015-06-04
0901 0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于对表面或物体进行热处理，或用于修改表面而进行热处理，尤其是半导体表面，包括扩散炉、连续式炉、半导体表面汽化的设备、老化炉、真空炉,
0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于气体和废气净化，包括烟道气净化设备
0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于对表面或物体进行热处理，或用于修改表面而进行热处理，尤其是半导体表面，包括扩散炉、连续式炉、半导体表面汽化的设备、老化炉、真空炉;0901-操作系统和装置用的硬件和软件，用于气体和废气净化，包括烟道气净化设备 - 2015-01-16-2025-01-16
- centrotherm clean solutions GmbH
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