【高乐普】商标详情
- 高乐普
- 61307519
- 已销亡
- 普通商标
- 2021-12-10
0104 , 0111 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0111-金属加工用淬火液
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0111-金属加工用淬火液 - 高乐普(中山)润滑油科技有限公司
- 广东省中山市************
- 邮寄办理
2021-12-10 商标注册申请 | 申请收文
- 高乐普
- 61307519
- 已销亡
- 普通商标
- 2021-12-10
0104 , 0111 0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0111-金属加工用淬火液
0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用 化工原料;0111-金属加工用淬火液 - 高乐普(中山)润滑油科技有限公司
- 广东省中山市************
- 邮寄办理
2021-12-10 商标注册申请 | 申请收文
