【中环领先 ZHONGHUAN ADCANCED】商标详情
- 中环领先 ZHONGHUAN ADCANCED
- 64263523
- 已注册
- 普通商标
- 2022-04-26
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0102-有机砷化合物,
0102-氮化合物,
0102- 硅酸盐,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-结晶硅;0102-有机砷化合物;0102-氮化合物;0102-硅酸盐;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1813
- 2022-10-27
- 1825
- 2023-01-28
- 2023-01-28-2033-01-27
- TCL科技集团（天津）有限公司
- 天津市天津市************
- 深圳紫藤知识产权代理有限公司
2024-12-17 商标使用许可备案 | 核准通知书打印发送
2024-11-17 商标使用许可备案 | 补正通知打印发送
2024-11-01 商标使用许可备案 | 申请收文
2023-02-24 商标注册申请 | 注册证发文
2022-10-12 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-08-17 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2022-08-17 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-05-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-05-20 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-04-26 商标注册申请 | 申请收文
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- 普通商标
- 2022-04-26
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0102-有机砷化合物,
0102-氮化合物,
0102-硅酸盐,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-结晶硅;0102-有机砷化合物;0102-氮化合物;0102-硅酸盐;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1813
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2024-11-17 商标使用许可备案 | 补正通知打印发送
2024-11-01 商标使用许可备案 | 申请收文
2023-02-24 商标注册申请 | 注册证发文
2022-10-12 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-08-17 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2022-08-17 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-05-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-05-20 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-04-26 商标注册申请 | 申请收文
