【TSD CVD】商标详情
- TSD CVD
- G1211089
- 已注册
- 普通商标
- 2014-07-31
0744 0744-低压化学气相沉积设备,
0744-制造半导体用原子层沉积机,
0744-制造半导体用沉积机,
0744-制造半导体用蚀刻机,
0744-制造发光二极管用原子层沉积机,
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0744-制造太阳能电池用原子层沉积机,
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0744-半导体加工机器,
0744-等离子化学气相沉积设备,
0744-等离子强化化学气相沉积设备,
0744-金属有机化学气相沉积设备
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- 国际局
2023-12-26 国际续展 | 申请核准审核
2023-12-10 国际续展 | 申请收文
2015-04-14 领土延伸 | 审查
2014-07-31 领土延伸 | 申请收文
- TSD CVD
- G1211089
- 已注册
- 普通商标
- 2014-07-31
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2023-12-10 国际续展 | 申请收文
2015-04-14 领土延伸 | 审查
2014-07-31 领土延伸 | 申请收文