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【MONEXT】商标详情

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MONEXT
  • MONEXT
  • 89660995
  • 待审中
  • 普通商标
  • 第01类
  • 2026-01-12
  • 0101 , 0104 , 101 , 104

  • -用于半导体制造中在半导体晶圆及基底上沉积薄膜层的化学源材料,

    -用于半导体制造中在半导体晶圆及基底上沉积薄膜层的化学源材料,

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  • 阿思姆知识产权私人股份有限公司
  • 荷兰，凤凰城AP 1322，卫斯特克街8号
  • 北京市柳沈律师事务所

  • 2026-04-14 商标注册申请 | 受理通知书发文

    2026-03-13 商标注册申请 | 补正通知书发文

    2026-01-12 商标注册申请 | 申请收文

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  • -用于半导体制造中在半导体晶圆及基底上沉积薄膜层的化学源材料,

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