
【SEMIMAT】商标详情

- SEMIMAT
- 54354495
- 已注册
- 普通商标
- 2021-03-16
0102 , 0104 0102-乙二醇,
0102-工业用挥发碱(氨水),
0102-工业用过氧化氢,
0102-异丙醇,
0102-氢氟酸,
0102-硝酸,
0102-碱(化学制剂),
0102-磷酸,
0102-酮,
0102-醋酸酯,
0102-醚,
0104-分离和脱胶用制剂,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-工业用清洁剂
0102-乙二醇;0102-工业用挥发碱(氨水);0102-工业用过氧化氢;0102-异丙醇;0102-氢氟酸;0102-硝酸;0102-碱(化学制剂);0102-磷酸;0102-酮;0102-醋酸酯;0102-醚;0104-分离和脱胶用制剂;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-工业用清洁剂 - 1754
- 2021-08-06
- 1766
- 2021-11-07
- 2021-11-07-2031-11-06
- 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙)
2023-02-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-12-28 商标注册申请 | 注册证发文
2021-04-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-03-16 商标注册申请 | 申请收文
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- 2021-03-16
0102 , 0104 0102-乙二醇,
0102-工业用挥发碱(氨水),
0102-工业用过 氧化氢,
0102-异丙醇,
0102-氢氟酸,
0102-硝酸,
0102-碱(化学制剂),
0102-磷酸,
0102-酮,
0102-醋酸酯,
0102-醚,
0104-分离和脱胶用制剂,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-工业用清洁剂
0102-乙二醇;0102-工业用挥发碱(氨水);0102-工业用过氧化氢;0102-异丙醇;0102-氢氟酸;0102-硝酸;0102-碱(化学制剂);0102-磷酸;0102-酮;0102-醋酸酯;0102-醚;0104-分离和脱胶用制剂;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-工业用清洁剂 - 1754
- 2021-08-06
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- 2021-11-07
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- 深圳新宙邦科技股份有限公司
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2023-02-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-12-28 商标注册申请 | 注册证发文
2021-04-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-03-16 商标注册申请 | 申请收文
