
【图形】商标详情

- 图形
- 72641372
- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-05
4209 , 4214 , 4220 4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体的设计,
4209-填充用装置和机器的设计,
4209-质量检测,
4209-质量评估,
4209-集成电路的设计,
4209-集成电路设计,
4214-产品测试,
4220-芯片设计软件开发
4209-半导体加工技术研究;4209-半导体封装设计;4209-半导体的设计;4209-填充用装置和机器的设计;4209-质量检测;4209-质量评估;4209-集成电路的设计;4209-集成电路设计;4214-产品测试;4220-芯片设计软件开发 - 1856
- 2023-09-20
- 1868
- 2023-12-21
- 2023-12-21-2033-12-20
- 新特系统股份有限公司
- 台湾省新竹县************
- 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
2024-01-13 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-07-05 商标注册申请 | 申请收文
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4209 , 4214 , 4220 4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体的设计,
4209-填充用装置和机器的设计,
4209-质量检测,
4209-质量评估,
4209-集成电路的设计,
4209-集成电路设计,
4214-产品测试,
4220-芯片设计软件开发
4209-半导体加工技术研究;4209-半导体封装设计;4209-半导体的设计;4209-填充用装置和机器的设计;4209-质量检测;4209-质量评估;4209-集成电路的设计;4209-集成电路设计;4214- 产品测试;4220-芯片设计软件开发 - 1856
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2024-01-13 商标注册申请 | 注册证发文
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