【APPLIED MATERIALS】商标详情
- APPLIED MATERIALS
- G977840
- 已注册
- 普通商标
- 2008-11-04
0913 0913-上述产品的零部件和附加装置,
0913-化学汽相淀反应堆,
0913-半导体晶片加工设备和组件，即晶体取向附生反应堆,
0913-物理汽相淀反应堆,
0913-离子注入器，用于上述商品的支撑框架,
0913-等离子蚀刻机
0913-上述产品的零部件和附加装置;0913-化学汽相淀反应堆;0913-半导体晶片加工设备和组件，即晶体取向附生反应堆;0913-物理汽相淀反应堆;0913-离子注入器，用于上述商品的支撑框架;0913-等离子蚀刻机 - 2018-05-02-2028-05-02
- APPLIED MATERIALS，INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2018-09-11 国际续展 | 申请核准审核
2018-06-24 国际续展 | 申请收文
2012-05-02 商标注册申请 | 驳回复审完成
2011-12-13 商标注册申请 | 开具注册证明完成
2011-10-20 商标注册申请 | 出具商标注册证明中
2011-10-20 商标注册申请 | 开具注册证明待审中
2011-03-28 商标注册申请 | 驳回复审完成
2010-03-09 驳回复审 | 打印受理通知
2009-10-26 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2009-10-26 商标注册申请 | 驳回复审中
2009-10-26 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2008-11-04 商标注册申请 | 领土延伸中
2008-11-04 领土延伸 | 申请收文
- APPLIED MATERIALS
- G977840
- 已注册
- 普通商标
- 2008-11-04
0913 0913-上述产品的零部件和附加装置,
0913-化学汽相淀反应堆,
0913-半导体晶片加工设备和组件，即晶体取向附生反应堆,
0913-物理汽相淀反应堆,
0913-离子注入器，用于上述商品的支撑框架,
0913-等离子蚀刻机
0913-上述产品的零部件和附加装置;0913-化学汽相淀反应堆;0913-半导体晶片加工设备和组件，即晶体取向附生反应堆;0913-物理汽相淀反应堆;0913-离子注入器，用于上述商品的支撑框 架;0913-等离子蚀刻机 - 2018-05-02-2028-05-02
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- 加利福尼亚圣克拉拉************
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2018-09-11 国际续展 | 申请核准审核
2018-06-24 国际续展 | 申请收文
2012-05-02 商标注册申请 | 驳回复审完成
2011-12-13 商标注册申请 | 开具注册证明完成
2011-10-20 商 标注册申请 | 出具商标注册证明中
2011-10-20 商标注册申请 | 开具注册证明待审中
2011-03-28 商标注册申请 | 驳回复审完成
2010-03-09 驳回复审 | 打印受理通知
2009-10-26 商标注册申请 | 收到驳回复审申请或补充材料,待审
2009-10-26 商标注册申请 | 驳回复审中
2009-10-26 商标注册申请 | 驳回复审待审中
2008-11-04 商标注册申请 | 领土延伸中
2008-11-04 领土延伸 | 申请收文
