【E-CHEM】商标详情
- E-CHEM
- 82733451
- 已注册
- 普通商标
- 2024-12-24
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-氟,
0101-硅,
0102-乙基锌,
0102-四氯化物,
0102-有机卤代硅烷,
0102-有机硅烷,
0102-有机金属化合物,
0102-硅烷,
0102-磷化氢,
0102-聚硅烷,
0102-茂金属,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-氟;0101-硅;0102-乙基锌;0102-四氯化物;0102-有机卤代硅烷;0102-有机硅烷;0102-有机金属化合物;0102-硅烷;0102-磷化氢;0102-聚硅烷;0102-茂金属;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1940
- 2025-06-20
- 1952
- 2025-09-21
- 2025-09-21-2035-09-20
- 上海正帆科技股份有限公司
- 上海市上海市************
- 上海麦升知识产权代理有限公司
2025-06-10 商标注册申请 | 等待驳回复审
2025-04-15 商标注册申请 | 驳回通知发文
2025-02-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-12-24 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-12-24
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-氟,
0101-硅,
0102-乙基锌,
0102-四氯化物,
0102-有机卤代硅烷,
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0102-茂金属,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-氟;0101-硅;0102-乙基锌;0102-四氯化物;0102-有机卤代硅烷;0102-有机硅烷;0102-有机金属化合物;0102-硅烷;0102-磷化氢;0102-聚硅烷;0102-茂金属;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1940
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2025-06-10 商标注册申请 | 等待驳回复审
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