【恒格微】商标详情
- 恒格微
- 72060717
- 已注册
- 普通商标
- 2023-06-06
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-离子交换剂,
0104-脱胶和分离用制剂,
0104-蚀刻媒染剂（酸）
0101-半导体用硅;0101-硅;0101-结晶硅;0102-碳化硅（原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-离子交换剂;0104-脱胶和分离用制剂;0104-蚀刻媒染剂（酸） - 1853
- 2023-08-27
- 1865
- 2023-11-28
- 2023-11-28-2033-11-27
- 珠海恒格微电子装备有限公司
- 广东省珠海市************
- 广州三环专利商标代理有限公司
2023-12-20 商标注册申请 | 注册证发文
2023-06-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-06 商标注册申请 | 申请收文
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- 72060717
- 已注册
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- 2023-06-06
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-离子交换剂,
0104-脱胶和分离用制剂,
0104-蚀刻媒染剂（酸）
0101-半导体用硅;0101-硅;0101-结晶硅;0102-碳化硅（原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-离子交换剂;0104-脱胶和分离用制剂;0104-蚀刻媒染剂（酸） - 1853
- 2023-08-27
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- 2023-11-28
- 2023-11-28-2033-11-27
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2023-12-20 商标注册申请 | 注册证发文
2023-06-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-06 商标注册申请 | 申请收文
