【PSAB】商标详情
- PSAB
- 6615589
- 已销亡
- 普通商标
- 2008-03-24
0901 , 0910 0901-半导体制造用软件(已录制),
0910-化学气相沉积反应器
0901-半导体制造用软件(已录制);0910-化学气相沉积反应器 - 1202
- 2010-02-06
- 1214
- 2010-05-07
- 2010-05-07-2020-05-06
- 诺发系统有限公司
- 加利福尼亚圣何塞************
- 永新专利商标代理有限公司
2023-12-27 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2023-12-27 期满未续展注销商标 | 申请收文
2023-12-19 期满未续展注销商标 | 申请收文
2012-06-13 商标注册申请 | 商标变更完成
2011-12-15 商标注册申请 | 变更商标申请人/注册人名义/地址中
2011-12-15 商标注册申请 | 商标变更待审中
2011-06-07 商标注册申请 | 商标已注册
2011-01-07 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2010-05-28 商标注册申请 | 打印注册证
2010-05-06 商标注册申请 | 商标注册申请中
2008-04-08 商标注册申请 | 打印受理通知
2008-03-24 商标注册申请 | 申请收文
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0910-化学气相沉积反应器
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2010-05-28 商标注册申请 | 打印注册证
2010-05-06 商标注册申请 | 商标注册申请中
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