【MOSL】商标详情
- MOSL
- 77903354
- 已注册
- 普通商标
- 2024-04-11
0104 -工业用化学制剂,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-催化剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产加工用去污剂,
0104-生产加工用除脂剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0104-金属电镀用化学成分
-工业用化学制剂;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-催化剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用洗净剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产加工用去污剂;0104-生产加工用除脂剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0104-金属电镀用化学成分 - 1895
- 2024-07-13
- 1907
- 2024-10-14
- 2024-10-14-2034-10-13
- 上村工业株式会社
- 大阪大阪市************
- 永新专利商标代理有限公司
2024-06-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-11 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-04-11 商标注册申请 | 申请收文
- MOSL
- 77903354
- 已注册
- 普通商标
- 2024-04-11
0104 -工业用化学制剂,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-催化剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产加工用去污剂,
0104-生产加工用除脂剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0104-金属电镀用化学成分
-工业用化学制剂;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-催化剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用洗净剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产加工用去污剂;0104-生产加工用除脂剂;0104-生产印刷电路板用化学 涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0104-金属电镀用化学成分 - 1895
- 2024-07-13
- 1907
- 2024-10-14
- 2024-10-14-2034-10-13
- 上村工业株式会社
- 大阪大阪市************
- 永新专利商标代理有限公司
2024-06-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-11 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-04-11 商标注册申请 | 申请收文