【九德半导体 JIU DE SEMICONDUCTOR】商标详情
- 九德半导体 JIU DE SEMICONDUCTOR
- 71922652
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-30
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0102-氧化铝,
0102-硝酸铝,
0102-纤维素,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-抗氧剂,
0104-生产加工用去污剂
0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0102-氧化铝;0102-硝酸铝;0102-纤维素;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-抗氧剂;0104-生产加工用去污剂 - 1868
- 2023-12-20
- 1880
- 2024-03-21
- 2024-03-21-2034-03-20
- 济宁九德半导体科技有限公司
- 山东省济宁市************
- 济南文衡创服知识产权代理事务所（普通合伙）
2024-06-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2024-06-04 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2024-04-12 商标注册申请 | 注册证发文
2023-12-06 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-10-11 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-30 商标注册申请 | 申请收文
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- 71922652
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-30
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0102-氧化铝,
0102-硝酸铝,
0102-纤维素,
0104-光致抗蚀 剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-抗氧剂,
0104-生产加工用去污剂
0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0102-氧化铝;0102-硝酸铝;0102-纤维素;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-抗氧剂;0104-生产加工用去污剂 - 1868
- 2023-12-20
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- 2024-03-21
- 2024-03-21-2034-03-20
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2023-12-06 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-10-11 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
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