【PT】商标详情
- PT
- 3379107
- 已销亡
- 普通商标
- 2002-11-22
0104 -除去电路板及电子零件光阻液及熔接剂之化学溶剂,
0104-使用于半导体工业之浸蚀剂,
0104-制造印刷电路板用显像剂,
0104-半导体用光阻液,
0104-半导体用抗辐射剂,
0104-半导体用显像剂,
0104-带电防止剂,
0104-水质测试剂,
0104-水质离子测试剂,
0104-集成电路去光阻剂后之清洁剂
-除去电路板及电子零件光阻液及熔接剂之化学溶剂;0104-使用于半导体工业之浸蚀 剂;0104-制造印刷电路板用显像剂;0104-半导体用光阻液;0104-半导体用抗辐射剂;0104-半导体用显像剂;0104-带电防止剂;0104-水质测试剂;0104-水质离子测试剂;0104-集成电路去光阻剂后之清洁剂 - 932
- 2004-06-21
- 944
- 2004-09-21
- 2004-09-21-2014-09-20
- 宝晶科技股份有限公司
- 台湾省************
- 永新专利商标代理有限公司
2016-10-07 期满未续展注销商标 | 排版未续展注销公告
2004-10-10 商标注册申请 | 打印注册证
2002-12-11 商标注册申请 | 等待打印受理通知
2002-11-22 商标注册申请 | 申请收文
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- 已销亡
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- 2002-11-22
0104 -除去电路板及电子零件光阻液及熔接剂之化学溶剂,
0104-使用于半导体工业之浸蚀剂,
0104-制造印刷电路板用显像剂,
0104-半导体用光阻液,
0104-半导体用抗辐射剂,
0104-半导体用显像剂,
0104-带电防止剂,
0104-水质测试剂,
0104-水质离子测试剂,
0104-集成电路去光阻剂后之清洁剂
-除去电路板及电子零件光阻液及熔接剂之化学溶剂;0104-使用于半导体工业之浸蚀剂;0104-制造印刷电路板用显像剂;0104-半导体用光阻液;0104-半导体用抗辐射剂;0104-半导体用显像剂;0104-带电防止剂;0104-水质测试剂;0104-水质离子测试剂;0104-集成电路去光阻剂后之清洁剂 - 932
- 2004-06-21
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- 宝晶科技股份有限公司
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2004-10-10 商标注册申请 | 打印注册证
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