【NANOCURE】商标详情
- NANOCURE
- G1326685
- 待审中
- 普通商标
- 2017-01-05
0744 0744-半导体晶片加工组件，即用于处理和生产半导体基层、薄膜、硅盘以及晶片的化学气相沉积反应器,
0744-半导体晶片加工设备
0744-半导体晶片加工组件，即用于处理和生产半导体基层、薄膜、硅盘以及晶片的化学气相沉积反应器;0744-半导体晶片加工设备 - APPLIED MATERIALS， INC
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2018-09-16 驳回复审 | 实审裁文发文
2018-09-16 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2018-03-15 驳回复审 | 申请收文
2018-02-24 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2018-02-24 领土延伸 | 驳回电子发文
2017-01-05 领土延伸 | 申请收文
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- 待审中
- 普通商标
- 2017-01-05
0744 0744-半导体晶片加工组件，即用于处理和生产半导体基层、薄膜、硅盘以及晶片的化学气相沉积反应器,
0744-半导体晶片加工设备
0744-半导体晶片加工组件，即用于处理和生产半导体基层、薄膜、硅盘以及晶片的化学气相沉积反应器;0744-半导体晶片加工设备 - APPLIED MATERIALS， INC
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2018-09-16 驳回复审 | 实审裁文发文
2018-09-16 驳回复审 | 等待实审裁文发文
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2018-02-24 领土延伸 | 等待驳回电子发文
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