【TROPEL】商标详情
- TROPEL
- 3043755
- 已注册
- 普通商标
- 2001-12-18
0905 , 0910 , 0911 0905-度量衡仪器,
0910-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备,
0910-干扰计,
0910-度量衡仪器,
0911-具有超高密度深层紫外线光学盘的镜头罩,
0911-可减少反射折射的照相平版印刷(法)式的镜头,
0911-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备,
0911-干 扰计,
0911-用于测试表面平面偏差的激光式干扰计,
0911-精密光学品,
0911-绕射的圆柱形的擦地入射式的干扰计
0905-度量衡仪器;0910-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备;0910-干扰计;0910-度量衡仪器;0911-具有超高密度深层紫外线光学盘的镜头罩;0911-可减少反射折射的照相平版印刷(法)式的镜头;0911-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备;0911-干扰计;0911-用于测试表面平面偏差的激光式干扰计;0911-精密光学品;0911-绕射的圆柱形的擦地入射式的干扰计 - 865
- 2003-01-28
- 877
- 2003-04-28
- 2023-04-28-2033-04-27
- 康宁卓奔公司
- 新泽西费尔菲尔德************
- 中国专利代理(香港)有限公司
2023-02-15 商标续展 | 核准通知打印发送
2023-01-30 商标续展 | 申请收文
2013-10-21 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2013-04-26 商标续展 | 申请收文
2003-05-22 商标注册申请 | 打印注册证
2002-03-27 商标注册申请 | 打印受理通知
2002-03-27 商标注册申请 | 等待打印受理通知
2001-12-18 商标注册申请 | 申请收文
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- 3043755
- 已注册
- 普通商标
- 2001-12-18
0905 , 0910 , 0911 0905-度量衡仪器,
0910-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备,
0910-干扰计,
0910-度量衡仪器,
0911-具有超高密度深层紫外线光学盘的镜头罩,
0911-可减少反射折射的照相平版印刷(法)式的镜头,
0911-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备,
0911-干扰计,
0911-用于测试表面平面偏差的激光式干扰计,
0911-精密光学品,
0911-绕射的圆柱形的擦地入射式的干扰计
0905-度量衡仪器;0910-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备;0910-干扰计;0910-度量衡仪器;0911-具有超高密度深层紫外线光学盘的镜头罩;0911-可减少反射折射的照相平版印刷(法)式的镜头;0911-在打磨过程中用于分析半导体大晶片的设备;0911-干扰计;0911-用于测试表面平面偏差的激光式干扰计;0911-精密光学品;0911-绕射的圆柱形的擦地入射式的干扰计 - 865
- 2003-01-28
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- 2003-04-28
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- 康宁卓奔公司
- 新泽西费尔菲尔德************
- 中国专利代理(香港)有限公司
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