
【央益 YANG I】商标详情

- 央益 YANG I
- 64532710
- 已销亡
- 普通商标
- 2022-05-10
0104 , 0106 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-处理有害废物用化学品,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-水净化化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-实验室分析用化学品(非医用、非兽医用)
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-处理有害废物用化学品;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-水净化化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-实验室分析用化学品(非医用、非兽医用) - 上海央益电子科技有限公司
- 上海市上海市************
- 广州蔚知科技有限公司
2022-09-17 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-07-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-05-28 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-05-10 商标注册申请 | 申请收文
- 央益 YANG I
- 64532710
- 已销亡
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- 2022-05-10
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-处理有害废物用化学品,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-水净化化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-实验室分析用化学品(非医用、非兽医用)
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-处理有害废物用化学品;0104-工业用化学制剂;0104-工 业用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-水净化化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-实验室分析用化学品(非医用、非兽医用) - 上海央益电子科技有限公司
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2022-09-17 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-07-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-05-28 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-05-10 商标注册申请 | 申请收文


