【SANCODA】商标详情
- SANCODA
- 89293758
- 已初审
- 普通商标
- 2025-12-22
0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-处理有害废物用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-工业用清洁剂（半导体制造用）,
0104-废水处理用细菌,
0104-污染区净化用化学品,
0104-脱胶和分离用制剂（半导体制造用）
0101-半导体用硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-处理有害废物用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-工业用清洁剂（半导体制造用）;0104-废水处理用细菌;0104-污染区净化用化学品;0104-脱胶和分离用制剂（半导体制造用） - 1996
- 2026-08-20
- 上海盛剑科技股份有限公司
- 上海市上海市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2026-08-24 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-08-20 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-08-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-27 商标注册申请 | 补正通知书发文
2025-12-22 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-08-20 第1996期 查看公告
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- 2025-12-22
0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-处理有 害废物用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-工业用清洁剂（半导体制造用）,
0104-废水处理用细菌,
0104-污染区净化用化学品,
0104-脱胶和分离用制剂（半导体制造用）
0101-半导体用硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-处理有害废物用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-工业用清洁剂（半导体制造用）;0104-废水处理用细菌;0104-污染区净化用化学品;0104-脱胶和分离用制剂（半导体制造用） - 1996
- 2026-08-20
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