【联仕】商标详情
- 联仕
- 4071813
- 已注册
- 普通商标
- 2004-05-18
0104 0104-化学机械研磨后之清洁剂,
0104-半导体、二极体、太阳能电池及平面显示器用显影剂,
0104-去光阻液及熔接剂之化学溶剂,
0104-工业用洗净剂,
0104-蚀刻剂
0104-化学机械研磨后之清洁剂;0104-半导体、二极体、太阳能电池及平面显示器用显影剂;0104-去光阻液及熔接剂之化学溶剂;0104-工业用洗净剂;0104-蚀刻剂 - 1042
- 2006-10-07
- 1054
- 2007-01-07
- 2017-01-07-2027-01-06
- 联仕电子化学材料股份有限公司
- 台湾省高雄市************
- 永新专利商标代理有限公司
2026-09-12 商标续展 | 缴费通知书发文
2026-09-10 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 变更证明
2026-08-31 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2026-08-31 商标续展 | 申请收文
2017-02-09 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2017-02-09 商标续展 | 核准通知打印发送
2017-01-05 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 等待打印受理通知书
2016-12-22 商标续展 | 等待打印受理通知书
2016-10-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2016-10-17 商标续展 | 申请收文
2007-01-26 商标注册申请 | 打印注册证
2005-05-24 商标注册申请 | 打印受理通知
2005-03-14 商标注册申请 | 等待补正回文
2005-03-14 商标注册申请 | 补正收文
2004-05-18 商标注册申请 | 申请收文
- 联仕
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0104 0104-化学机械研磨后之清洁剂,
0104-半导体、二极体、太阳能电池及平面显示器用显影剂,
0104-去光阻液及熔接剂之化学溶剂,
0104-工业 用洗净剂,
0104-蚀刻剂
0104-化学机械研磨后之清洁剂;0104-半导体、二极体、太阳能电池及平面显示器用显影剂;0104-去光阻液及熔接剂之化学溶剂;0104-工业用洗净剂;0104-蚀刻剂 - 1042
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