【RIBER】商标详情
- RIBER
- G1141359
- 已注册
- 普通商标
- 2012-12-29
0901 , 0905 , 0910 , 0912 , 0913 0901-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备,
0905-量规,
0910-气体分析设备,
0910-用于制造超真空产品的科学设备,
0910-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备,
0912-电线,
0913-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备
0901-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备;0905-量规;0910-气体分析设备;0910-用于制造超真空产品的科学设备;0910-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备;0912-电线;0913-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备 - 2022-07-13-2032-07-13
- RIBER
- 瓦勒德瓦兹省伯宗************
- 国际局
2023-05-17 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2023-03-22 出具商标注册证明 | 申请收文
2022-09-23 国际续展 | 申请核准审核
2022-09-04 国际续展 | 申请收文
2014-07-29 国际部分注销 | 申请收文
2014-04-09 商标注册申请 | 国际部分注销中
2013-11-11 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2013-11-11 领土延伸 | 审查
2012-12-29 领土延伸 | 申请收文
- RIBER
- G1141359
- 已注册
- 普通商标
- 2012-12-29
0901 , 0905 , 0910 , 0912 , 0913 0901-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备,
0905-量规,
0910-气体分析设备,
0910-用于制造超真空产品的科学设备,
0910-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备,
0912-电线,
0913-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备
0901-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备;0905-量规;0910-气体分析设备;0910-用于制造超真空产品的科学设备;0910-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备;0912-电线;0913-科学用具及仪器，尤其是分子束外延设备，真空蒸镀设备，微电元件制造设备，半导体装置制造设备 - 2022-07-13-2032-07-13
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- 瓦勒德瓦兹省伯宗************
- 国际局
2023-05-17 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2023-03-22 出具商标注册证明 | 申请收文
2022-09-23 国际续展 | 申请核准审核
2022-09-04 国际续展 | 申请收文
2014-07-29 国际部分注销 | 申请收文
2014-04-09 商标注册申请 | 国际部分注销中
2013-11-11 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2013-11-11 领土延伸 | 审查
2012-12-29 领土延伸 | 申请收文
