【CEG】商标详情
- CEG
- 35051277
- 已注册
- 普通商标
- 2018-12-03
0101 , 0102 , 0104 -半导体制造用掺杂剂,
-半导体制造用清洁制剂,
-卤酸盐,
-无机卤化物,
-莹石化合物,
0101-工业用碘,
0101-氟,
0101-氮,
0102-有机卤化物,
0102-有机硅烷,
0102-氢氟酸,
0102-氮化合物,
0102-氯氟碳化合物,
0102-莹石化合物,
0102-萤石化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用去污剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产加工用去污剂
-半导体制造用掺杂剂;-半导体制造用清洁制剂;-卤酸盐;-无机卤化物;-莹石化合物;0101-工业用碘;0101-氟;0101-氮;0102-有机卤化物;0102-有机硅烷;0102-氢氟酸;0102-氮化合物;0102-氯氟碳化合物;0102-莹石化合物;0102-萤石化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用去污剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产加工用去污剂 - 1667
- 2019-10-13
- 1679
- 2020-01-14
- 2020-01-14-2030-01-13
- 中央硝子株式会社
- 山口宇部市************
- 北京安伦知识产权代理有限公司
2020-02-26 商标注册申请 | 注册证发文
2020-02-26 商标注册申请 | 等待注册证发文
2019-09-17 商标注册申请 | 等待驳回复审
2019-07-23 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2019-07-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-07-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-07-16 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2019-06-06 商标注册申请 | 等待补正回文
2019-05-29 商标注册申请 | 等待补正通知发文
2019-05-29 商标注册申请 | 补正通知发文
2019-04-08 商标注册申请 | 等待补正回文
2019-03-19 商标注册申请 | 补正通知发文
2018-12-03 商标注册申请 | 申请收文
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- 2018-12-03
0101 , 0102 , 0104 -半导体制造用掺杂剂,
-半导体制造用清洁制剂,
-卤酸盐,
-无机卤化物,
-莹石化合物,
0101-工业用碘,
0101-氟,
0101-氮,
0102-有机卤化物,
0102-有机硅烷,
0102-氢氟酸,
0102-氮化合物,
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0102-莹石化合物,
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用去污剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产加工用去污剂
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