【图形】商标详情
- 图形
- 90031978
- 已注册
- 普通商标
- 2026-02-02
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-液晶显示器组装机,
0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-等离子刻蚀机
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- 2026-05-27
- 1997
- 2026-08-28
- 2026-08-28-2036-08-27
- 恪之纯精密制造（苏州）有限公司
- 江苏省苏州市************
- 苏州吴韵知识产权代理事务所（普通合伙）
2026-05-29 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-05-27 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-03-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-02-02 商标注册申请 | 申请收文
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- 90031978
- 已注册
- 普通商标
- 2026-02-02
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
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- 2026-05-27
- 1997
- 2026-08-28
- 2026-08-28-2036-08-27
- 恪之纯精密制造（苏州）有限公司
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- 苏州吴韵知识产权代理事务所（普通合伙）
2026-05-29 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-05-27 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-03-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-02-02 商标注册申请 | 申请收文
