【KIE】商标详情
- KIE
- 3124634
- 已注册
- 普通商标
- 2002-03-25
0102 , 0104 0102-表面活性化学剂,
0104-制造印刷电路板用显像剂,
0104-半导体用光阻液,
0104-半导体用显像剂,
0104-印刷用均化剂,
0104-平光剂,
0104-抗氧化剂,
0104-抗蚀刻剂,
0104-晶片抛光用研磨液,
0104-氧化稳定剂,
0104-浓度稳定剂,
0104-消光剂,
0104-炭膜处理剂,
0104-电子工业用清洁剂,
0104-褪光剂,
0104-金属电解脱脂剂,
0104-防污膜剂,
0104-除去电路板及电子零件光阻液及熔接的化学溶剂,
0104-集成电路去光阻剂后的清洁剂,
0104-集成电路用显影剂,
0104-集成电路用洗净液,
0104-集成电路用薄膜形成液,
0104-集成电路用蚀刻液
0102-表面活性化学剂;0104-制造印刷电路板用显像剂;0104-半导体用光阻液;0104-半导体用显像剂;0104-印刷用均化剂;0104-平光剂;0104-抗氧化剂;0104-抗蚀刻剂;0104-晶片抛光用研磨液;0104-氧化稳定剂;0104-浓度稳定剂;0104-消光剂;0104-炭膜处理剂;0104-电子工业用清洁剂;0104-褪光剂;0104-金属电解脱脂剂;0104-防污膜剂;0104-除去电路板及电子零件光阻液及熔接的化学溶剂;0104-集成电路去光阻剂后的清洁剂;0104-集成电路用显影剂;0104-集成电路用洗净液;0104-集成电路用薄膜形成液;0104-集成电路用蚀刻液 - 873
- 2003-03-28
- 885
- 2003-06-28
- 2023-06-28-2033-06-27
- 多联科技股份有限公司
- 台湾省台北市************
- 中科专利商标代理有限责任公司
2022-08-09 商标续展 | 核准通知打印发送
2022-07-07 商标续展 | 申请收文
2022-07-05 商标续展 | 申请收文
2013-03-20 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2013-01-09 商标续展 | 申请收文
2003-07-17 商标注册申请 | 打印注册证
2002-05-22 商标注册申请 | 打印受理通知
2002-05-22 商标注册申请 | 等待打印受理通知
2002-03-25 商标注册申请 | 申请收文
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0104-半导体用光阻液,
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0104-平光剂,
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0104-抗蚀刻剂,
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0104-集成电路去光阻剂后的清洁剂,
0104-集成电路用显影剂,
0104-集成电路用洗净液,
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0104-集成电路用蚀刻液
0102-表面活性化学剂;0104-制造印刷电路板用显像剂;0104-半导体用光阻液;0104-半导体用显像剂;0104-印刷用均化剂;0104-平光剂;0104-抗氧化剂;0104-抗蚀刻剂;0104-晶片抛光用研磨液;0104-氧化稳定剂;0104-浓度稳定剂;0104-消光剂;0104-炭膜处理剂;0104-电子工业用清洁剂;0104-褪光剂;0104-金属电解脱脂剂;0104-防污膜剂;0104-除去电路板及电子零件光阻液及熔接的化学溶剂;0104-集成电路去光阻剂后的清洁剂;0104-集成电路用显影剂;0104-集成电路用洗净液;0104-集成电路用薄膜形成液;0104-集成电路用蚀刻液 - 873
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