【WEIYUE PHOTOSENSITIVE】商标详情
- WEIYUE PHOTOSENSITIVE
- 85892450
- 已注册
- 普通商标
- 2025-06-13
4001 , 4015 4001-提供材料处理信息,
4015-为他人定制生产芯片(集成电路),
4015-化学试剂加工和处理,
4015-半导体封装,
4015-半导体晶片的加工,
4015-半导体晶片的定制生产,
4015-半导体电路的定制生产
4001-提供材料处理信息;4015-为他人定制生产芯片(集成电路);4015-化学试剂加工和处理;4015-半导体封装;4015-半导体晶片的加工;4015-半导体晶片的定制生产;4015-半导体电路的定制生产 - 1957
- 2025-10-27
- 1969
- 2026-01-28
- 2026-01-28-2036-01-27
- 微悦光敏材料（深圳）有限公司
- 广东省深圳市************
- 北京中慧创科知识产权代理有限公司
2026-02-24 商标注册申请 | 注册证发文
2025-07-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-06-13 商标注册申请 | 申请收文
- WEIYUE PHOTOSENSITIVE
- 85892450
- 已注册
- 普通商标
- 2025-06-13
4001 , 4015 4001-提供材料处理信息,
4015-为他人定制生产芯片(集成电路),
4015-化学试剂加工和处理,
4015-半导体封 装,
4015-半导体晶片的加工,
4015-半导体晶片的定制生产,
4015-半导体电路的定制生产
4001-提供材料处理信息;4015-为他人定制生产芯片(集成电路);4015-化学试剂加工和处理;4015-半导体封装;4015-半导体晶片的加工;4015-半导体晶片的定制生产;4015-半导体电路的定制生产 - 1957
- 2025-10-27
- 1969
- 2026-01-28
- 2026-01-28-2036-01-27
- 微悦光敏材料（深圳）有限公司
- 广东省深圳市************
- 北京中慧创科知识产权代理有限公司
2026-02-24 商标注册申请 | 注册证发文
2025-07-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-06-13 商标注册申请 | 申请收文
