【OPTIMASK】商标详情
- OPTIMASK
- 5963351
- 已注册
- 普通商标
- 2007-03-26
0104 0104-平版印刷抗蚀刻化学品,
0104-微电子产品制造用化学品,
0104-用于光阻材料、有机/无机抗反射材料的化学品(微电子产品制造用化学品),
0104-集成电路制造用有机硬掩膜(微电子产品制造用化学品)
0104-平版印刷抗蚀刻化学品;0104-微电子产品制造用化学品;0104-用于光阻材料、有机/无机抗反射材料的化学品(微电子产品制造用化学品);0104-集成电路制造用有机硬掩膜(微电子产品制造用化学品) - 1187
- 2009-10-13
- 1199
- 2010-01-14
- 2020-01-14-2030-01-13
- 罗门哈斯电子材料有限公司
- 马萨诸塞马尔伯勒************
- 上海专利商标事务所有限公司
2019-12-04 商标续展 | 核准通知打印发送
2019-11-05 商标续展 | 申请收文
2019-10-31 商标续展 | 申请收文
2010-02-01 商标注册申请 | 打印注册证
2007-08-13 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-03-26 商标注册申请 | 申请收文
- OPTIMASK
- 5963351
- 已注册
- 普通商标
- 2007-03-26
0104 0104-平版印刷抗蚀刻化学品,
0104-微电子产品制造用化学品,
0104-用于光阻材料、有机/无机抗反射材料的化学品(微电子产品制造用化学品),
0104-集成电路制造用有机硬掩膜(微电子产品制造用化学品)
0104-平版印刷抗蚀刻化学品;0104-微电子产品制造用化学品;0104-用于光阻材料、有机/无机抗反射材料的化学品(微电子产品制造用化学品);0104-集成电路制造用有机硬掩膜(微电子产品制造用化学品) - 1187
- 2009-10-13
- 1199
- 2010-01-14
- 2020-01-14-2030-01-13
- 罗门哈斯电子材料有限公司
- 马萨诸塞马尔伯勒************
- 上海专利商标事务所有限公司
2019-12-04 商标续展 | 核准通知打印发送
2019-11-05 商标续展 | 申请收文
2019-10-31 商标续展 | 申请收文
2010-02-01 商标注册申请 | 打印注册证
2007-08-13 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-03-26 商标注册申请 | 申请收文
