【C P-LOK】商标详情
- C P-LOK
- 6093340
- 已销亡
- 普通商标
- 2007-06-06
0104 0104-化学机械抛光中清除抛光液及抛光碎屑用化学品,
0104-半导体及集成电路用的低传导性绝缘薄膜成膜用化学品,
0104-在半导体上制孔用制孔剂(半导体制造工业用化学品)
0104-化学机械抛光中清除抛光液及抛光碎屑用化学品;0104-半导体及集成电路用的低传导性绝缘薄膜成膜用化学品;0104-在半导体上制孔用制孔剂(半导体制造工业用化学品) - 1190
- 2009-11-06
- 1202
- 2010-02-07
- 2010-02-07-2020-02-06
- 空气制品及化学品有限公司
- 宾夕法尼亚纽敦************
- 北京英特普罗知识产权代理有限公司
2010-02-25 商标注册申请 | 商标已注册
2010-02-25 商标注册申请 | 打印注册证
2009-08-24 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2007-09-18 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-06-06 商标注册申请 | 商标注册申请中
2007-06-06 商标注册申请 | 申请收文
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- 2007-06-06
0104 0104-化学机械抛光中清除抛光液及抛光碎屑用化学品,
0104-半导体及集成电路用的低传导性绝缘薄膜成膜用化学品,
0104-在半导体上制孔用制孔剂(半导体制造工业用化学品)
0104-化学机械抛光中清除抛光液及抛光碎屑用化学品;0104-半导体及集成电路用的低传导性绝缘薄膜成膜用化学品;0104-在半导体上制孔用制孔剂(半导体制造工业用化学品) - 1190
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2009-08-24 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2007-09-18 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-06-06 商标注册申请 | 商标注册申请中
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