【FC300】商标详情
- FC300
- 67792547
- 已销亡
- 普通商标
- 2022-10-18
0101 , 0104 0101-氟,
0104-制冷剂,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用清洁剂,
0104-清漆溶剂,
0104-澄清剂,
0104-生产加工用去污剂
0101-氟;0104-制冷剂;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用清洁剂;0104-清漆溶剂;0104-澄清剂;0104-生产加工用去污剂 - 衢州市东业化工科技有限公司
- 浙江省衢州市************
- 衢州市天昊商标事务所有限公司
2023-04-01 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-02-04 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-11-17 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-10-18 商标注册申请 | 申请收文
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- 2022-10-18
0101 , 0104 0101-氟,
0104-制冷剂,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用清洁剂,
0104-清漆溶剂,
0104-澄清剂,
0104-生产加工用去污剂
0101-氟;0104-制冷剂;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用清洁剂;0104-清漆溶剂;0104-澄清剂;0104-生产加工用去污剂 - 衢州市东业化工科技有限公司
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2023-02-04 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-11-17 商标注册申请 | 受理通知书发文
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2022-10-18 商标注册申请 | 申请收文
